Esta válvula está especialmente diseñada para sistemas de vacío. Adopta el modo de accionamiento neumático y controla la apertura y el cierre del deflector mediante aire comprimido. Es adecuado para escenarios industriales que requieren una respuesta rápida u operación remota. Su función principal es lograr un aislamiento y conmutación precisos del flujo de aire en un ambiente de alto vacío (rango de presión de trabajo de 1×10⁻⁵Pa a presión normal). Se utiliza ampliamente en la fabricación de semiconductores, recubrimiento al vacío, envasado farmacéutico y otros campos.
Diseño estructural
Cuerpo de válvula y deflector: Fabricado en acero inoxidable 304/316L. Después del procesamiento de precisión, la rugosidad de la superficie es ≤0,8μm para garantizar la precisión correspondiente de la superficie de sellado; el borde del deflector tiene incrustaciones de caucho fluorado o una junta tórica metálica y la tasa de fuga es ≤1×10⁻⁵Pa·m³/s.
Actuador neumático: consta de un cilindro, un pistón y una válvula solenoide, admite modo de doble efecto o simple efecto y tiene un tiempo de respuesta de ≤2 segundos; Interruptor de límite de recorrido opcional para lograr retroalimentación de posición.
Sistema de sellado: utiliza doble sellado del sello del eje de fuelle y la junta tórica para evitar el riesgo de fugas del prensaestopas tradicional, con un rango de resistencia a temperaturas de -30 ℃ a 150 ℃.
Características de rendimiento
Apertura rápida y cierre: el tiempo de apertura y cierre de la válvula DN100 bajo accionamiento neumático es ≤3 segundos y la eficiencia de cierre de emergencia es alta.
Diseño de bajo mantenimiento: el anillo de sellado modular admite el reemplazo en línea sin desmontar el cuerpo de la válvula.
Compatibilidad: La interfaz de brida cumple con los estándares ISO-KF y es adecuada para tuberías DN16-DN50; Admite señal de 4-20 mA o protocolo Modbus para conectarse al sistema de automatización.
Aplicaciones típicas
Aislamiento de cavidades y cambio de gas de equipos de recubrimiento al vacío
Control de gas de proceso en el proceso de fabricación de obleas semiconductoras
Operación remota y apagado seguro del laboratorio sistemas de vacío
(Nota: los parámetros específicos deben estar sujetos a la documentación técnica real del producto).
